Технологические услуги

Благодаря доступу к современной линии производства МЭМС с проектными нормами 0,6 мкм ООО «Микрофотоника» обладает огромным потенциалом для выполнения сложнейших НИОКР. В данный момент в составе технологической линии существует возможность проведения следующих операций:

-   контактная фотолитография и совмещение с точностью 0.6 мкм;

-   нанесение и проявление фоторезиста;

-   формирование элементов с латеральными размерами менее 100 нм;

-   гидромеханическая отмывка пластин;

-   удаление жертвенных слоев и материалов, сушка пластин;

- жидкостное селективное химическое травление структурообразующих слоев, анизотропное химическое травление в щелочных травителях;

-  термообработка структур, окисление, пирогенное окисление, формирование диффузионных областей;

-    конфорное осаждение различных материалов из газовой фазы при пониженном давлении;

-    селективное травление и удаление материалов с управляемой анизотропией;

-    плазменная очистка;

-    напыление тонких металлических слоев до 2 нм;

-   соединение пластин из различных материалов методами анодной посадки, термокомпрессии, прямогобондинга и Фьюжн-процесса;

-    герметизации корпусов методом роликовой шовной сварки с вакуумной печью.

Данная технологическая линия успешно используется для экспериментальной разработки и малосерийного производства изделий нано- и микросистемной техники с латеральными размерами элементов менее 100 нм.